半导体CVD和ALD用前驱体研究报告

前驱体是半导体薄膜沉积工艺的主要原材料，在薄膜、光刻、互连、掺杂等半导体制造过程中，前驱体主要应用于气相沉积(包括物理沉积PVD、化学气相沉积CVD和原子气相沉积ALD)，以形成符合半导体制造要求的各类薄膜层。此外，前驱体也可用于半导体外延生长、刻蚀、离子注入掺杂和清洗等，是半导体制造的核心材料之一。

2024-04-24

半导体CVD和ALD用前驱体

中文PDF版：￥24800.00

2022年全球半导体用ALD和CVD前驱体市场规模大约为1295.2百万美元，预计2029年达到2437百万美元，2023-2029期间年复合增长率（CAGR）为9.5%。就销量而言，2022年全球半导体用ALD和CVD前驱体销量为 ，预计2029年将达到 ，年复合增长率为 %。

2023-09-20

半导体CVD和ALD用前驱体

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